随着人们生活水平的提高，手机的使用也越来越普遍，但是，手机在带给人们方便的同时，其辐射对人体的危害也日益凸现。研究表表明，手机产生的电磁波强度是空间电磁波的4到6倍。少数劣质手机产生的电磁波甚至达到空间电磁波百倍以上。

    手机辐射可引发神经衰弱、内分泌失调，还能影响少年儿童的生长发育，严重的甚至会引发脑瘤。如何减轻手机辐射对人体健康的影响，已成为摆在我们面前的一个急需解决的问题。

    应用手机PVD真空镀膜技术，就可以较好地解决这个难题。PVD真空镀膜是在原子水平上进行材料生成的技术，镀层的晶料度在10纳米左右，属于纳米材料的范畴。通过对手机壳内壁真空镀电磁防护膜层，可以极大地防止因电磁波辐射而对手机使用者造成的危害。由北京东明化学工业有限公司完成的硬课题“手机PVD真空镀膜技术的研究”，主要解决的是镀膜的工艺问题，包括电阻率、附着力、高温抗氧化性、膜层表面光亮度以及复杂区域的膜层附着问题

    手机PVD真空镀膜技术的研究与应用，不仅推动了手机制造业的发展，也推动了相关产业的发展。有电磁辐射的产品都可以应用这项技术进行电磁屏蔽，以对其使用性能进行优化，保护人类健康，保护环境。