真空泵镀膜技术性一般可分为两类，即物理学液相沉积（PVD）技术性和有机化学液相沉积（CVD）技术性。 物理学液相沉积技术性指的是在真空环境情况下，运用各种各样物理方法，将镀料汽化成分子、分子结构或使其离化作正离子，立即沉积到基 体表面上的方式。制取硬质的反映膜大多数以物理学液相沉积方式制取，它使用某类物理学全过程，如化学物质的热蒸发，或遭受正离子 负电子时化学物质表面分子的磁控溅射等状况，完成化学物质分子从源化学物质到塑料薄膜的可控性迁移全过程。物理学液相沉积技术性具备膜/基结合性 好、塑料薄膜匀称高密度、塑料薄膜薄厚可预测性好、运用的溅射靶材普遍、磁控溅射范畴宽、可沉积厚膜、可制得成份平稳的铝合金膜和反复 性好等优势。 真空泵镀膜机关键指一类必须在较高真空值下实现的镀膜，包含真空泵正离子蒸发镀膜机、磁控溅镀膜机射、MBE分子结构束外延性镀 膜机和PLD激光器磁控溅射沉积镀膜机等很多种多样。----超硬面热喷涂厂家

主要是分为蒸发和磁控溅射二种。在真空泵镀膜机器设备中必须镀膜的被变成硅片，镀的 原材料被变成溅射靶材。硅片与溅射靶材共行真内腔中。蒸发镀膜一般是加温溅射靶材使表面成分以原子团或正离子方式被蒸发出去，并 且地基沉降在硅片表面，根据涂膜全过程产生塑料薄膜。真空泵镀膜机针对磁控溅射类镀膜，能够简易解释为运用电子器件或高能激光负电子靶 材，并使表面成分以原子团或正离子方式被磁控溅射出去，而且后沉积在硅片表面，历经涂膜全过程，后产生塑料薄膜。炉墙可 挑选由不锈钢板、碳素钢或他们的组成制作的双 层水冷散热构造。 有机化学液相沉积技术性是把带有组成塑料薄膜原素的氢氧化物汽体或化学物质提供基材，依靠液相功效或基材表面上的化学变化，在基 体上制成金属材料或化学物质塑料薄膜的方式，关键包含自然压有机化学液相沉积、低电压有机化学液相沉积和兼具CVD和PVD二者特性的低温等离子 有机化学液相沉积等。 蒸发化学物质如金属材料、化学物质等放置钳锅内或挂在热丝上做为蒸发源，待镀产品工件，如金属材料、瓷器、塑胶等硅片放置钳锅正前方 。

待系统软件抽无上真空泵后，加温钳锅使当中的化学物质蒸发。蒸发化学物质的分子或分子结构以冷疑方法沉积在硅片表面。塑料薄膜薄厚可 由百余埃至数μm。膜厚决策于蒸发源的蒸发速度和時间（或决策于放料量），并与源和硅片的间距相关。针对大规模 镀膜，常使用转动硅片或多蒸发源的方法以确保膜层薄厚的匀称性。从蒸发源到硅片的间距应低于蒸汽分子结构在残留汽体 中的真空磁导率，以防蒸汽分子结构与残气分子结构撞击造成化学效用。蒸汽分子结构均值机械能约为0.1～0.2电子伏。 蒸发源有三种种类。①电阻丝加热源：用硅化物金属材料如钨、钽做成舟箔或絮状,通以电流量,加温在它上边的或放置钳锅中的蒸 发化学物质（图1[蒸发镀膜机器设备平面图]）电阻丝加热源关键用以蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料；②高频感应加 热源：用高频感应电流加热坩埚和蒸发物质；③电子束加热源：适用于蒸发温度较高（不低于2000[618-1]）的材料，即 用电子束轰击材料使其蒸发。-----PVD真空镀膜