1. PVD的含意一PVD 是英语Physical Vapor Deposition的简称，中文翻译是“物理学液相堆积”，就是指在真空泵标准下，用物理学的方式 使原材料堆积在被镀产品工件上的薄膜制取技术性。

2. PVD表层的镀膜和PVD镀膜设备- PVD(物理学液相堆积)表层的镀膜技术性关键分成三类， 闪蒸罐表层的镀膜、真空泵磁控溅射镀和真空泵正离子表层的镀膜。相匹配于PVD技术性的三个归类，相对应的真空电镀机器设备也就会有真空泵蒸发镀膜机、真空泵磁控溅射镀膜设备和真空泵正离子镀膜设备这三种。

PVD真空镀膜是真空泵主要用途的一个关键层面，它是以真空设备为基本，运用物理学或有机化学方式 ，并消化吸收离子束、分子结构束、电子束、等电子束、频射和磁控等一系列新技术应用，为科研和具体生产制造出示薄膜制取的一种新技术新工艺。简易地说，在真空泵中把金属材料、铝合金或化学物质开展挥发或磁控溅射，使其在被涂敷的物件（称基钢板、衬底或基材）上凝结并堆积的方式 ，称之为真空电镀。

真空电镀技术性与湿试表层的镀膜技术性相较为，具备以下优势：

(1)薄膜和基材选料普遍，薄膜薄厚可开展操纵，以制取具备各种各样不一样作用的多功能性薄膜。

(2)在真空泵标准下制取薄膜，自然环境清理，薄膜不容易遭受环境污染，因而可得到高密度性好、纯净度高和镀层匀称的薄膜。

(3)薄膜与基材融合抗压强度好，薄膜坚固。

(4)干试表层的镀膜既不造成废水，也无空气污染。