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超硬面热喷涂
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多弧离子镀涂层表面大颗粒的去除

发布日期:2021-04-20 作者: 点击:

由于弧光放电的特性,大颗粒是多弧离子镀技术不可避免的缺陷。它的存在会影响涂层的加工质量,因此已经有人对此做了一些改善。在靶材表面加磁过滤管道,或者在基体和靶材之间增加挡板,是在文献中和专利中能经常见到的一种方法,但是这些方法都在一定程度降低了涂层的沉积率,因此没有在实际生产中获得很好的应用。生产中常见采用机械抛光的方法。下图就是机械抛光后涂层表面形貌的一个对比,去除效果很明显。这种涂层后处理方法由于效果明显,设备造价低,受到生产企业的青睐,在实际生产中得到了很好的应用。

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另外我们也做了一些尝试,采用高能离子轰击来去除大颗粒,从下图来看,以TiN涂层为基础,在涂层沉积完成后,我们采用高能的铬离子对涂层的表面进行离子轰击,涂层表面的大颗粒也得到了一定程度的改善。



3D打印高球形粉末


本文网址:http://www.gentec-gd.com.cn/news/527.html

关键词:超硬面热喷涂,PVD真空镀膜,3D打印高球形粉末

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