PVD真空电镀基本原理是啥？

PVD真空镀膜即物理学液相堆积，是当今国际性上广泛运用的优秀的表层处理技术性。其原理便是在真空泵标准下，运用汽体充放电使汽体或被挥发化学物质一部分离化，在汽体正离子或被挥发化学物质离子轰击功效的另外把挥发物或其生成物堆积在板材上。它具备堆积速度更快和表层清理的特性，尤其具备膜层粘合力强、绕性好、可镀原材料普遍等优势。

PVD表层的镀膜膜层的薄厚为μm级，薄厚较薄，一般为0.1μm～5μm，在其中装饰设计表层的镀膜膜层的薄厚一般为0.1μm~1μm，因而能够 在几乎不危害产品工件原先规格的状况下提升产品工件表层的各种各样工艺性能和有机化学特性，并可以保持产品工件规格基本上不会改变，镀后不需再生产加工。

PVD技术性广泛运用于电子设备 门窗五金、厨卫五金、灯具、水上用具、饰品、艺术品，以及它装饰艺术产品的生产加工生产制造。 

现如今PVD在日用五金行业已非常普及化，很多技术领先的五金生产商早已逐渐PVD商品的开发设计和批量生产。PVD丰富多彩的颜色使其很容易配搭，出色的抗极端自然环境，及其容易清洗、不退色的特性使其备受顾客钟爱。尤其是古铜色系列产品镀层，被全球普遍选用，并用于替代铜及电镀铜产品。