PVD真空镀膜是在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,在基材上形成薄膜的一种表面处理过程。技术方面不断的发展，PVD真空镀膜不均

匀的问题在一定程度上得到了解决，但从一个大的范围之内来看，任何的情况之下，我们在应用的过程中都会存在不均匀的情况，不均匀是绝对存在的，但是如果我们能够更好的进行调整，当其相对处在一个稳定的阶段，也不会影响到我们正常的使用。

过去几年，有越来越多的PVD真空镀膜设备不断的出现在使用的过程中，不仅仅能够降低不均匀的情况，而且在解决问题上也都会变得更加方便。现在很多的设备，相对来说是那种小规格，而且更加便捷的系统，使用的过程中能够更好的去实现其中的效果，但是也会存在不均匀的一些问题，所以我们应该在解决问题的过程中有一些更正确的思考。

想要解决PVD真空镀膜不均匀的情况，我们就应该考虑自己的预期是什么，并且能够根据自身的预期选择适合尺寸的机票，再加上物理性能一致的一些产品，然后再进行应用，那么最终的效果才会更好。不均匀的问题是绝对存在的，我们在解决的时候，只能够相对来说达到一个更好的效果，但是却不能够绝对让其均匀。