PVD真空镀膜工艺非常复杂。由于涂层原理不同，因此分为多种类型。它具有统一的名称，只是因为它需要很高的真空度。因此，对于不同的PVD真空镀膜，影响均匀性的因素也不同。均匀性的概念本身将根据涂层的大小和膜的组成而具有不同的含义。

膜均匀性的概念：

1.厚度均匀性也可以理解为粗糙度。在光学膜的尺寸上（即，以1/10波长为单位，约100A），真空涂层的均匀性非常好，并且可以容易地降低粗糙度。控制程度在可见光波长的1/10范围内，这意味着对于薄膜的光学特性，真空镀膜没有障碍。

但是，如果涉及原子层尺度的均匀性，即达到10A甚至1A的表面流平性，则是真空镀膜的主要技术内容和技术瓶颈。具体的控制因素将根据不同的涂层进行详细说明。 。

2.化学成分均匀：

也就是说，在薄膜中，由于尺寸太小，化合物的原子组成将容易产生不均匀的特性。对于SiTiO3薄膜，如果涂覆工艺不科学，则实际表面组成不是SiTiO3，而可以是其他比例。涂覆的膜不是所需膜的化学组成，这也是真空镀膜的技术含量。

3.格序度均匀度：

这确定薄膜是单晶，多晶和无定形的。这是真空镀膜技术中的热点问题。有关详情，请参见下文。

分类主要分为两类：

蒸发沉积和溅射沉积涂层，包括许多类型，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，溶胶-凝胶法等。

1.对于蒸发涂层：

通常，将靶加热，以使表面成分以原子团或离子的形式蒸发，并沉积在基板的表面上，并通过成膜工艺形成薄膜（分散的点岛结构-迷路的）。结构层生长）。

厚度均匀度主要取决于：

1.基材与靶材之间的晶格匹配度

2.基板表面温度

3.蒸发功率，速率

4.真空度

5.涂布时间和厚度。

组件均匀度：

蒸发涂层的组成均匀性不容易得到保证。具体的可控因素与上述相同。然而，由于原理的限制，对于非单组分涂层，蒸发涂层的组成均匀性不好。

对于溅射涂层，可以简单地理解为使用电子或高能激光轰击靶材并导致表面组分以原子团或离子的形式溅射出来，后沉积在金属表面上。在基材上进行成膜过程。后，形成薄膜。

溅射涂层分为许多类型。一般而言，与蒸发涂层的区别在于溅射速率将成为主要参数之一。

这些参数需要通过实验确定，并且都不同。镀膜设备的质量主要取决于是否可以精确控制温度，是否可以确保良好的真空度以及是否可以确保良好的真空腔室清洁度。 MBE分子束涂层技术已经解决了上述问题，但基本上已用于实验研究。工业生产中常用的集成镀膜机主要是离子蒸发镀膜和磁控溅射镀膜。