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超硬面热喷涂
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那么PVD真空镀膜在制作中会有哪些流程

发布日期:2019-08-29 作者:正德 点击:

    真空电镀设备的真空室能用不锈钢或者碳钢组合使用制作,真空电镀设备做成单开门或者又开门。真空电镀设备能通过利用电阻加热,若电阻要加热,真空电镀设备所使用的材料包括石墨、钨、钽、钼、镍铬等,真空电镀设备加热后要进行保温,真空电镀设备设置了保温层就可以提高加热的效率,以免真空电镀设备的热量快速散失,一般有金属保温层和复合保温层两种形式。



   真空电镀设备为更好的进行测试、测定室内温度,真空电镀设备使用测温仪器和控温仪器,避免温度过高或不达标真空电镀设备,抽气系统由各种真空泵及附件按其各自功能组装使用。PVD真空镀膜:一般TiN,CrN,TiC,ZrN,电镀出来的厚度大概是3~5微米。一般情况真空镀膜的厚度是在设备上测试不出来了。

PVD真空镀膜


    光学镀膜的膜厚测试可以在镀膜机的中间顶上装置膜厚测试仪即可。早的是光控测试,现在一般用晶控(晶振片)使用的是晶振片震动的频率来测试镀膜的厚度。不同膜层的厚度不同。PVD真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。



    需要镀膜的被成为基片,镀的材料被成为靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且终沉积在基片表面,经历成膜过蒸发镀膜设备+所镀产品图蒸发镀膜设备+所镀产品图程,终形成薄膜。



    PVD真空镀的工艺流程一般依次为:前处理及化学清洗(表面打磨抛光喷砂,除锈除油去氧化层)→工件在真空中烘烤加热→氩离子辉光清洗→金属离子轰击→镀金属过渡层→镀膜(通入反应气体)→后处理(炉内钝化或出炉后钝化去应力或防止变色,过UV做防指膜处理等)。


本文网址:http://www.gentec-gd.com.cn/news/454.html

关键词:PVD真空镀膜,3D打印高球形粉末,超硬面热喷涂

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