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PVD真空镀膜技术的研究与应用

发布日期:2019-04-12 作者:正德 点击:


 


   随着人们生活水平的提高,手机的使用也越来越普遍,但是,手机在带给人们方便的同时,其辐射对人体的危害也日益凸现。研究表表明,手机产生的电磁波强度是空间电磁波的4到6倍。少数劣质手机产生的电磁波甚至达到空间电磁波百倍以上。


    手机辐射可引发神经衰弱、内分泌失调,还能影响少年儿童的生长发育,严重的甚至会引发脑瘤。如何减轻手机辐射对人体健康的影响,已成为摆在我们面前的一个急需解决的问题。

PVD真空镀膜厂

    应用手机PVD真空镀膜技术,就可以较好地解决这个难题。PVD真空镀膜是在原子水平上进行材料生成的技术,镀层的晶料度在10纳米左右,属于纳米材料的范畴。通过对手机壳内壁真空镀电磁防护膜层,可以极大地防止因电磁波辐射而对手机使用者造成的危害。由北京东明化学工业有限公司完成的硬课题“手机PVD真空镀膜技术的研究”,主要解决的是镀膜的工艺问题,包括电阻率、附着力、高温抗氧化性、膜层表面光亮度以及复杂区域的膜层附着问题


    手机PVD真空镀膜技术的研究与应用,不仅推动了手机制造业的发展,也推动了相关产业的发展。有电磁辐射的产品都可以应用这项技术进行电磁屏蔽,以对其使用性能进行优化,保护人类健康,保护环境。


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